阿斯麦突破极紫外光源功率瓶颈，达1000瓦并含中国学者关键贡献

荷兰阿斯麦公司是当前全球唯一具备极紫外光刻机量产能力的企业。现有极紫外光刻技术仍面临若干关键挑战，其中光源功率不足尤为突出，成为制约整体产能提升的主要瓶颈。

近期，该公司宣布在极紫外光源领域取得重要进展：成功将光源输出功率提升至一千瓦，较此前主流水平实现翻倍。这一突破标志着极紫外光刻技术迈入新阶段。目前行业主流设备光源功率约为六百瓦，对应晶圆加工效率为每小时二百二十片；功率提升至一千瓦后，理论产能可增至每小时三百三十片，增幅达百分之五十。

技术实现路径主要依托两项核心优化：一是将预脉冲波长由原先的十微米缩短至一微米，显著提升了能量耦合效率；二是将锡液滴喷射频率由每秒五万次提高至十万次，从而大幅增加极紫外光子生成数量。

该方案具备良好的延展性，后续有望将光源功率进一步推升至一千五百瓦乃至两千瓦量级，持续推动设备运行效率与单位晶圆产出能力提升，并对降低先进制程芯片制造成本产生深远影响。不过，该项技术尚处于工程验证阶段，距离全面投入量产仍需数年时间。

此次进展进一步巩固了阿斯麦公司在极紫外光刻领域的技术领先地位，也使其他潜在竞争者追赶难度明显加大。

值得关注的是，该项研究成果凝聚了多国科研力量。在相关论文作者中，包括多位来自中国的研究人员，其中Qiushi Zhu、Yue Ma与Haining Wang位列署名作者。Haining Wang作为第一作者及成果主讲人，在该项目中承担关键技术攻关任务。其学术背景显示，早年曾获国家优秀自费留学生奖，二零一六年于美国康奈尔大学获得博士学位，同年加入阿斯麦公司，长期从事激光驱动等离子体光源的基础物理研究与系统架构设计工作。