2025年11月27日,三星电子旗下先进研究机构宣布,已在国际学术期刊自然发表关于新型NAND Flash结构的重要研究成果。该论文题为用于低功耗NAND闪存的铁电晶体管,首次系统揭示了通过融合铁电材料与氧化物半导体技术,实现NAND闪存功耗较现有方案降低96%的核心机制,属全球首创。
此项技术突破有望显著提升人工智能数据中心、移动终端等广泛领域的能效表现。作为主流的非易失性存储介质,NAND闪存在断电后仍可稳定保存数据,其基本原理依赖于向存储单元注入电子完成数据写入。为持续提升存储密度,行业普遍采用增加堆叠层数的方式构建芯片,但这一方式也导致数据读写过程中能耗大幅上升,尤其在高负载运行的数据中心环境中,功耗问题已成为制约发展的关键挑战。
此次研究成功解决了高密度存储与低功耗之间的矛盾,为未来高性能存储技术的发展提供了新的路径。

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