日本主导EUV材料供应，韩企加速国产替代但挑战仍存

日本在极紫外光刻技术领域虽未能赶上先进光刻机制造水平，但在关键配套材料方面仍具有重要影响力，尤其体现在极紫外光刻胶和极紫外掩模等核心材料上。目前，三星所使用的极紫外掩模几乎完全依赖从日本进口，主要供应商为豪雅和AGC，这两家企业在光学玻璃领域积淀深厚，长期占据全球极紫外掩模供应的重要位置。

然而自2019年起，日本对韩国实施了针对三种关键半导体材料的出口限制，促使韩国加速推进关键技术的本土化替代进程。近年来，韩国在极紫外掩模领域取得实质性进展。过去数年间，三星持续与本土企业S&S科技合作研发，最新消息显示，相关产品已完成关键验证阶段，预计将于第二季度启动供货。

鉴于极紫外光刻设备及工艺本身复杂度高、成本昂贵，三星不会立即全面切换至国产掩模，而是采取逐步替代策略，初期以小批量导入为主，再根据实际应用效果稳步扩大使用范围。这一路径同样有望被SK海力士采纳，未来或将加大韩国本土生产的极紫外掩模采购比例。

尽管如此，韩国在摆脱对日本关键材料依赖的整体进展仍存在局限。早在六年前便提出实现极紫外光刻胶自主供应的目标，但至今该领域仍由日本企业主导，韩国具备量产能力的企业数量极少。这不仅反映出极紫外相关技术研发门槛极高，也暴露出部分配套材料市场规模相对有限的现实。例如，全球极紫外掩模年市场规模约为3亿美元，其中三星用量估计约为三分之一，即1亿美元左右，而研发所需投入可能已超过该市场规模。

相比之下，国内市场的情况则有所不同。由于对极紫外及深紫外光刻相关材料和设备的需求体量远大于韩国，国产替代的空间更为广阔，同时推动自主化进程的紧迫性也更强。