佳能光刻机工厂扩建启用，发力纳米压印技术抢占市场先机

佳能位于日本宇都宫市的光刻机工厂完成扩建后，将于今年9月正式启用。这是该工厂自2004年建成以来，时隔21年后的首次扩展。此次扩建旨在提升光刻设备的生产能力，抓住人工智能产业快速发展带来的市场机遇，进一步争夺由全球领先企业主导的光刻设备领域主导权。

随着人工智能带动全球半导体需求快速增长，佳能投入500亿日元（约合23.94亿人民币），建成面积超过6.7万平方米的新厂区。此次扩建不仅是规模上的提升，更体现在技术布局的转变。新工厂采用双轨发展战略，在继续生产传统紫外光（UV）光刻设备的同时，引入具有突破意义的纳米压印光刻系统。该系统通过将电路图案直接压印到晶圆表面，显著简化了制造流程。

相比传统光刻技术，纳米压印技术在制造成本与能耗方面展现出更强优势，也成为佳能在光刻设备领域提升竞争力的重要抓手。根据产能规划，新工厂预计在2027年达到满产状态。届时，加上宇都宫和阿见两处现有生产基地，佳能的光刻机年产量将超过300台，较2024年的233台出货量增长近三成。

目前，佳能在全球光刻设备市场中占据约30%的份额，排名第二。然而，在决定高端芯片性能的极紫外光（EUV）光刻领域，仍与领先企业存在明显差距。根据国际半导体贸易统计组织预测，到2026年，全球半导体市场规模将达到7607亿美元，年均增长率达到8.5%，更有分析机构预测，2030年市场规模将突破万亿美元。

在高端光刻领域持续被主导的情况下，佳能正借道纳米压印技术，寻找差异化突破路径，希望在全球人工智能算力基础设施建设的热潮中赢得新的发展空间。