ASML将极紫外功率提升至1000瓦 以提升良率并降低芯片成本

近期ASML宣布，已将其极紫外EUV光刻系统的光源功率从目前约600瓦提升至1000瓦。据路透社报道，该公司称，到2030年代末，这一提升有望使芯片产量增加最多50%。光源功率的提升将直接转化为更高的产能效率。

ASML表示，到2030年，客户每小时可处理约330片晶圆，而目前约为220片/小时，这将降低单颗芯片的生产成本。 为实现1000瓦功率，ASML将锡液滴喷射速率翻倍至约每秒 10 万滴，并从单脉冲激光改为双脉冲激光整形方案。

该公司表示，未来还有望进一步提升至1500瓦，甚2000瓦。 ASML是全球唯一一家商用EUV光刻机供应商，台积电、SK 海力士、英特尔等主流芯片厂商均在使用。