美光加速 EUV 技术攻坚，1γ DRAM 工艺目标 2025 年量产

6月27日，美光科技在日本广岛工厂开发的采用EUV光刻技术的1γ DRAM生产工艺取得成功。据悉，该公司计划于明年进入大规模量产阶段，并计划于2025年实现量产。

美光科技CEO Sanjay Mehrotra表示：“采用极紫外光刻技术的1γ DRAM试产进展顺利，我们正按计划于2025年实现量产。”虽然目前美光所有量产芯片都是采用DUV光刻机制造，但该公司最终还是无法避免使用EUV技术。

同时，除了采用EUV技术的1γ和1δ生产工艺之外，美光还打算在未来几年探索3D DRAM架构以及用于DRAM生产的高数值孔径EUV技术。

另外，在最近公布的第三财季业绩报告中显示，由于AI领域持续高速发展，存储解决方案需求攀升，使数据中心收入“如虎添翼”，该财季总营收达到68.1亿美元（当前约496.13亿元人民币），同比更是大增81.6%，优于分析师此前预期的66.7亿美元（当前约485.93亿元人民币）。

展望截至今年8月底的第四财季，美光预计营收区间为74亿-78亿美元（当前约539.11亿-56825亿人名币），区间中点基本符合分析师预期的758亿美元（当前约45552亿人名币）。