由于人工智能芯片需求的激增,导致硅中间层面积增加,进而导致12英寸晶圆可切割数量减少,进一步加剧了CoWoS封装的供不应求情况。
据台积电预测,英伟达推出的B系列芯片(包括GB200、B100、B200)将消耗更多的CoWoS封装产能。此外,台积电还预计到年底月产能将接近4万片,相比2023年总产能增长超过150%。
然而,英伟达发布的B100和B200芯片中,中间层面积(interposer area)将比以前更大。这意味着从12英寸晶圆切割出来的芯片数量减少,导致CoWoS封装厂无法满足GPU需求。
另外,在HBM方面也存在难题。采用EUV光刻技术开始逐步增加,以HBM市场份额第一的SK海力士为例,在1α生产时应用单层EUV技术,并在今年起转向1β,并有可能将EUV应用提升至3~4倍。
除技术难度提升外,在HBM迭代中,HMB中的DRAM数量也同步增加。在HMB2中堆叠的DRAM数量为4~8个,在HMB3/3E中增加到了8~12个,在HMB4中堆叠的DRAM数量将达到16个。
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