近日,荷兰光刻设备制造商ASML在2024年投资者日会议上公布了其长期战略和全球市场和技术趋势分析。该公司预计,到2030年,其年收入将达到约440亿至600亿欧元(约合人民币3355亿元至4575亿元),毛利率约为56%至60%。
ASML总裁兼首席执行官傅恪礼表示,公司将在未来十年内继续推动EUV极紫外光刻技术的发展,并积极参与并抓住AI(人工智能)的机遇。他预计,在下一个十年里,ASML将实现显著的营收和盈利增长。
ASML认为,EUV光刻机的销售在未来二十年有巨大的上升空间。公司指出,EUV技术具有良好的可扩展性,并有望使客户从多重曝光工艺转向使用EUV的单次曝光工艺。这将支持先进逻辑芯片、DRAM芯片的发展。此外,随着技术的进步和市场需求的增加,EUV光刻机的需求也将逐年快速增长。
展望未来,ASML预测,EUV光刻机需求的年复合增长率将达到两位数(即超过10%)。这意味着,随着市场对先进半导体产品需求的增长,以及EUV光刻技术的应用推广,EUV光刻机市场将会呈现出非常强劲的态势。
总之,ASML的长期战略以及对全球市场和技术趋势的分析显示了其对于推动新一代半导体产品生产、提升经济效益的决心和信心。我们期待着看到公司在未来发展中取得更多突破,并为全球科技行业带来更多的创新与发展。
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