三星与应用材料合作，减少 4nm 工艺中 EUV 光刻使用

据韩媒报道，三星电子正在与应用材料合作，以减少其4nm工艺中使用的人工紫外线（EUV）光刻技术。虽然EUV光刻可以实现更高的图案化精度，但相对应的成本也较高。尖端半导体制造过程中越来越多地使用EUV双重图案化来优化芯片面积和成本效益。

报道显示，三星正在评估应用材料的Centura Sculpta系统来缩短工艺流程并降低成本。该系统去年初发布，并引入了图案塑形功能。

通过图案塑形，可以精确修改晶圆特征图形的尺寸，增强EUV图案化性能，减少最关键图层的图案化次数，在功率、性能、面积、成本和上市时间等方面取得改进。应用材料声称，每片晶圆上使用Centura Sculpta系统可以节约约360元人民币（约50美元）的制造成本，并减少能源和水资源消耗以及二氧化碳排放。

这种新的工艺技术对于制造业来说是一个重要的突破，因为它能够提高效率并降低成本。然而，在实际应用中还需要进一步测试和验证，以确保其稳定性和可靠性。