苹果屏下Face ID专利曝光，或将iPhone 18上实现真全面屏

对于苹果公司而言，实现iPhone真全面屏形态的最大技术难点无疑是屏下Face ID。由于Face ID系统依赖于深感摄像头投射并分析大量的点来捕获准确的人脸数据，其中的红外摄像头、点阵投影器等关键组件在当前技术条件下难以完全隐藏到屏幕下方。因此，苹果目前只能采用妥协的药丸屏方案来解决这一问题。然而，近日有媒体报道称，苹果已经获得了一项关于屏下Face ID的专利，该专利有望解决屏下摄像头的技术难题，为iPhone实现真全面屏形态铺平道路。

据了解，屏下Face ID面临的首要问题是提高红外光的透光率。虽然红外光能够穿过显示屏，但其透射率较差，如果强行将其置于面板下方，人脸识别过程将会变得缓慢，且安全可靠性也会降低。然而，苹果的最新专利显示，他们通过删除一些子像素的方式，成功让红外光能够穿过盖板，实现屏下人脸识别。

具体来说，苹果的方案是移除相同颜色的相邻子像素，以此来让红外光能够成功穿过OLED面板。由于每个像素都由红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素组成，而屏幕上的色彩正是由这三种不同颜色的子像素叠加、混合呈现出来的。因此，苹果通过移除部分子像素来让红外光通过，同时借用相邻的子像素通过颜色混合来弥补缺失的子像素，从而保证整体显示效果的一致性。

值得注意的是，这一方案并不会被用户肉眼察觉，因为缺失的子像素会被相邻的子像素所弥补，从而保持屏幕显示效果的完整性。据媒体报道，这一屏下Face ID技术最快将在2026年的iPhone 18系列上得到应用。届时，iPhone 18系列将告别现有的药丸屏形态，以单挖孔屏的形态呈现，实现真正的全面屏设计。