英特尔4工艺良率高于预期信心很高 采用4nm工艺

在马来西亚槟城的一次集体采访中，英特尔逻辑开发副总裁William Grimm表示，英特尔4制程的良率高于预期，他对此表示出了极高的信心。英特尔4是英特尔工艺中首次应用极紫外光（EUV）的工艺。 根据IC Knowledge提供的逆向工程数据，英特尔4工艺的性能优于台积电5nm，接近3nm工艺。然而，Grimm坚持认为，将英特尔4与其他代工厂的现有节点进行比较是困难的，因此他们只是参考了外部基准测试并执行了自己的PPA。 Grimm表示：“通过EUV，我们可以控制工艺复杂性，我们成功地获得了比预期更高的产量。”他还介绍说，英特尔4节点是一个特别注重能源效率的工艺，“如果说英特尔7工艺是专注于性能最大化的工艺，那么英特尔4则专注于提高能效，它更适合笔记本电脑等应用。” 此外，Grimm还表示，EUV产能已经有足够的保障来满足市场需求，并且未来几年的计划，比如英特尔3，已经确定了。