今天,佳能正式官宣,发布了最新的i线步进式光刻机“FPA-5550iX”,该产品能够同时实现0.5μm(微米)高解像力与50 x 50mm大视场曝光,该产品可用于全画幅CMOS、头戴显示器等小型显示设备的曝光工序、高对比度微型OLED显示器制造等领域。
所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯,和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。
今天,佳能正式官宣,发布了最新的i线步进式光刻机“FPA-5550iX”,该产品能够同时实现0.5μm(微米)高解像力与50 x 50mm大视场曝光,该产品可用于全画幅CMOS、头戴显示器等小型显示设备的曝光工序、高对比度微型OLED显示器制造等领域。
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