苹果拟2027年推iPhone 20系列，跳过19代致敬二十周年

2026年10月7日，业内消息显示，苹果拟于2027年推出iPhone 20系列，跳过数字编号19，以此致敬iPhone诞生二十周年。此举与2017年跳过iPhone 9、直接发布iPhone X的策略一脉相承。当年iPhone X首次引入全面屏设计与Face ID，成为具有划时代意义的产品；此次跳号同样意在强调iPhone 20并非普通年度更新，而是一次面向未来的关键演进。

据多方信息汇总，iPhone 20系列将首次放弃延续多年的直角边框与平面屏幕方案，转而采用四曲面玻璃结构，并搭配极致收窄的边框，力求实现更沉浸的视觉体验。关于屏幕形态，此前曾有预测称该系列或将实现真正意义上的全面屏，即把Face ID模组整体集成于屏幕下方。但最新线索表明，iPhone 20系列大概率仍将沿用iPhone 18 Pro所采用的灵动岛交互形式。已有实物图片流出，显示其屏幕盖板仍保留前置摄像头与传感器开孔，挖孔结构清晰可见。

实现屏下Face ID的技术门槛显著高于屏下摄像头。该系统依赖点阵投影器投射数以万计的红外光点，再由红外镜头捕捉面部形变数据，进而构建高精度三维人脸模型。若将整套光学组件移至屏下，需大幅提升OLED面板的红外穿透能力，而这可能引发屏幕像素结构可见性增强，即所谓“纱窗效应”，同时加剧有机发光材料的局部老化风险，带来潜在烧屏隐患。尽管算法可在一定程度上校正光学畸变，却难以从根本上消除光线穿过复杂多层屏幕结构时产生的物理衍射干扰，亦会对日常显示质量构成影响。此外，识别可靠性、大规模制造的一致性及良率控制等现实问题，亦使全功能屏下Face ID在短期内难以落地。因此，更现实的路径或是部分关键组件下沉，其余仍保持现有布局，兼顾创新节奏与用户体验的平衡。