苹果拟推iPhone 20真全面屏，屏下Face ID技术瓶颈致方案存疑

2026年8月15日，据多方信息显示，苹果正为2027年发布的iPhone 20系列——即iPhone问世二十周年纪念机型——规划一次重大外观变革：拟取消沿用多年的灵动岛设计，迈向无开孔的真全面屏形态。实现这一目标的关键，在于将Face ID原深感摄像头系统与前置摄像头全部集成于屏幕之下。

然而，业内分析指出，该方案在当前技术条件下落地难度较高。尽管苹果持续投入研发，但屏下成像与屏下3D结构光识别仍面临显著瓶颈。屏幕玻璃对光线的吸收与散射效应，尤其影响红外光的穿透效率与路径稳定性，导致面容识别的精度与安全等级难以满足现有标准。同时，屏下前置摄像头在低照度环境中的成像质量、解析力与信噪比，尚未达到旗舰产品应有的水准。

因此，短期内实现全功能、高可靠性的无开孔真全面屏，尚不具备充分的工程成熟度。距离iPhone 20正式发布仅剩约一年时间，研发周期已相对紧张，完整屏下Face ID方案的商用节奏仍存较大不确定性。

相较而言，更具现实可行性的路径是：将部分原深感组件迁移至屏幕下方，保留前置摄像头物理开孔，但大幅压缩灵动岛的视觉面积与结构体积。该方案已在供应链端完成关键材料与模组的量产准备，预计将于下一代高端机型即iPhone 18 Pro及Pro Max上首次搭载，并有望延续至2027年的iPhone 20系列。