SK海力士公司近日宣布开始量产全球最高级别的321层1Tb(太字节)TLC(Triple Level Cell)4D NAND闪存。与上一代产品相比,这款新型闪存的数据传输速度和读取性能分别提升了12%和13%,同时数据读取的能效也提高了超过10%。
SK海力士表示,他们从2023年6月起开始供应目前市场上的最高级别的上一代238层NAND闪存产品,并计划于明年上半年向客户供应321层的产品来满足市场需求。
在开发这款新型闪存的过程中,SK海力士的技术团队采用了高效的“3-Plug”工艺技术,克服了堆叠方面的局限。该技术通过将通孔工艺流程分为三次进行,随后经过优化的后续工艺将三个通孔进行电气连接。在这一过程中,他们开发出低变形材料,并引入了通孔间自动排列(Alignment)矫正技术。
值得一提的是,SK海力士的技术团队还使用了上一代238层NAND闪存的开发平台来开发321层的产品。通过最大限度地减少工艺变化,与上一代相比,他们的生产效率提高了59%。
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