三井化学开发碳纳米管CNT薄膜、支援EUV光刻机下一代

三井化学宣布将在其岩国大竹工厂设立碳纳米管（CNT）薄膜生产线，开始量产半导体最尖端光刻机的零部件产品。该生产线预计于2025年12月完工，可用于荷兰ASML将推出的下一代高数值孔径、高输出EUV光刻机提供支持。

什么是CNT薄膜呢？要介绍新材料，我们需要先了解一下新EUV光刻技术的能力和需求。简单来说，下一代EUV光刻技术对高数值孔径（NA值0.55）、高输出功率（600W及更高）工艺的需求尤其显著，而由新材料制成的薄膜对于承受“能实现此技术所需的苛刻光刻环境”至关重要。

为此，三井化学开发出了新款CNT薄膜并决定进行量产。这种CNT薄膜可以实现92%以上的高EUV透射率和超过1kW曝光输出功率的光阻能力。三井化学希望通过在其产品线中添加使用CNT作为膜材料的新一代防护薄膜产品，以及使用硅基膜制成的传统EUV防护薄膜，从而帮助ASML提高半导体性能和生产率。

参考资料：

MITSUI PELLICLE™ | MITSUI CHEMICALS, INC.

Works | Domestic Sites | MITSUI CHEMICALS, INC.