三星电子加速布局2nm工艺，2026年量产

三星电子将2nm制程工艺视为当前先进芯片制造领域的重要突破方向，并在产能布局和资源配置方面给予了高度重视。根据韩国媒体日前发布的消息，三星计划最早于2026年1月至2月间，开始向其位于美国得克萨斯州泰勒的工厂引入用于2nm量产的关键设备。该工厂原本规划建设的是4nm产线，但鉴于市场需求和技术发展趋势，已调整为优先发展2nm工艺。

此前，由于先进制程技术尚未完全成熟，该项目曾经历多次延期。不过，今年第二季度，泰勒工厂的洁净室装修工程已重新启动，并预计在今年底前完成。洁净室的建设是后续设备进场安装的前提条件，因此这一进展意味着项目正在逐步推进。

另一方面，也有消息称，为集中资源确保2nm工艺能在今年底前实现量产，三星对其原有的1.4nm研发计划进行了调整。原定于今年第二季度在平泽二号工厂启动的1.4nm测试线建设，已被推迟至今年底或明年年初进行。这使得1.4nm工艺的量产时间可能延后至2028年。