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ASML第二代EUV光刻机跳票3年 售价高昂

ASML是全球唯一一家量产EUV光刻机的,台积电、三星、Intel的7nm、5nm及未来的3nm、2nm都要依赖EUV光刻机,单台售价超过1亿美元,成本极高。

ASML的EUV光刻机目前使用的是第一代,EUV光源波长在13.5nm左右,物镜的NA数值孔径是0.33,发展了一系列型号。其中最早量产出厂的是NXE:3400B,产能有限,一小时生产晶圆是125PWH,目前的出货主力是NXE:3400C,产能提升到135WPH,今年底还有NXE:3600D系列出货,产能再进一步提升到160WPH。

第二代EUV光刻机会是N XE:5000系列,其物镜的NA将提升到0.55,进一步提高光刻精度,半导体工艺突破1nm工艺就要靠下一代光刻机了。这代EUV光刻机NXE:5000系列跳票三年,要到2025-2026年才有可能问世了。二代EUV光刻机的价格预计轻松达到3亿美元,是现有EUV光刻机的2-3倍,这就意味着未来的芯片工艺成本极其昂贵。

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