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ASML公布制造1nm的最强光刻机

11月中旬,与ASML(阿斯麦)合作研发光刻机的半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。而就目前来说,ASML对于3、2、1nm都做了非常清晰的规划,并且也公布了1nm的很多细节,从光刻机的体积来看,确实小了很多。

其实目前三星、台积电都已经引入了NA=0.33的EUV曝光设备,ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计(即NXE:5000系列),预计在2022年实现商业化,也就是说1nm的时代已经不远了。

那么,1nm以后,行业的天花板又在哪?

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