当Intel还在10nm挣扎的时候,台积电与三星不仅仅已经量产7nm,5nm甚至已经提上了日程,但进入公布的相关指标,并没有想象中那么好。
5nm光刻机将会继续使用荷兰ASMLEUV光刻机,相对7nm密度可以增加80%。然而这只是表面上看起来厉害,实则频率仅有15%的提升,同等密度频率功耗降低20,对于二代7nm的提升就更为有限。
目前台积电的日常功率为145W,部分连续250W,预计本年度较晚时候才能达到300W。EUV目前还面临着掩膜材料的问题,目前极紫外线的通透率只有83%,明年才有机会达到90%
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